Добро пожаловать Клиент!

Членство

А

Помощь

А
Шанхайская компания Хэнцзе
ЮйЗаказчик производитель

Основные продукты:

pharmamach> >Продукты

Шанхайская компания Хэнцзе

  • Электронная почта

  • Телефон

  • Адрес

    Новый район Пудун, Шанхай, улица Хуэйнань, 168А, комната 322.

АСвяжитесь сейчас

тонкопленочный теплопровод методом теплового отражения NanoT

ДоговариваемыйОбновление на10/29
Модель
Природа производителя
Производители
Категория продукта
Место происхождения

Обзор

Импульсный лазерный метод теплового отражения тонкопленочный теплопровод NanoTR / PicoTR метод теплового отражения - метод лазерной вспышки, разработанный для применения на нанометровых пленках

Подробности о продукте

тонкопленочный теплопровод

NanoTR / PicoTR

Метод теплового отражения - лазерный флэш - конденсатор, специально разработанный для применения на нанометровых пленках


Метод термического отражения (Thermo - Reflectance) основан на сверхскоростной лазерной системе вспышки, которая измеряет параметры термообразия металлических, керамических и полимерных пленок на подложке, такие как коэффициент тепловой диффузии (Thermal Diffusivity), теплопроводность (Thermal Conductivity), коэффициент поглощения тепла (Thermal Effusivity) и тепловое сопротивление интерфейса.

Поскольку время вспышки лазера составляет только наносекундный (ns) уровень и даже достигает пикосекундного (ps) порядка, система может измерять тонкие пленки толщиной до 10 нм. В то же время, система предлагает различные режимы измерения, чтобы адаптироваться к различным базовым ситуациям (прозрачным / непрозрачным).

Этот метод соответствует международным стандартам:
JIS R 1689: измерение коэффициента тепловой диффузии тонкой керамической пленки методом импульсного лазерного теплового отражения;
JIS R 1690 - Метод измерения теплового сопротивления на границе между керамической и металлической пленкой.

Краткая история развития

  • В 1990 году Японский институт промышленных технологий / Японский национальный институт метрологии (AIST / NMIJ) изобрел метод теплового отражения для измерения теплопроводности пленки.
  • В 2008 году AIST основала компанию PicoTherm.
  • В 2010 году компания PicoTherm выпустила наносекундную систему теплового отражения NanoTR.
  • В 2012 году компания PicoTherm представила систему теплового отражения PicoTR.
  • В 2014 году PicoTherm и NETZSCH наладили стратегическое сотрудничество. Компания NETZSCH отвечает за продажи и обслуживание продуктов PicoTherm по всему миру.

Режим измерения

Модель измерения RF Модель измерения FF
Основной лазерный источник нагревает пленку с обратной стороны и обнаруживает, что лазер измеряет процесс повышения температуры пленки с передней стороны, чтобы рассчитать параметры теплопроводности пленки. Этот режим применим к прозрачным базовым чипам. Основной лазерный источник нагревает пленку спереди и обнаруживает, что лазер измеряет процесс снижения температуры пленки спереди, чтобы рассчитать параметры теплопроводности пленки. Этот режим применим к непрозрачным базовым пластинам.

Технический контекст:

Лазерная вспышка -
Наиболее распространенный метод проверки коэффициента тепловой диффузии материала

В современной промышленности все большее значение приобретают знания о тепловых свойствах материалов, особенно термофизических свойствах. Здесь мы можем назвать некоторые типичные области, такие как охлаждающие материалы, используемые в высокопроизводительных микроэлектронных устройствах, термоэлектрические материалы, используемые в качестве постоянной энергии, теплоизоляционные материалы в области энергосбережения, тепловые барьерные покрытия, используемые в лопастях турбины (ТБК), а также безопасная эксплуатация ядерных установок и так далее.

Коэффициент теплопроводности особенно важен среди различных термических параметров. Коэффициент тепловой диффузии / теплопроводности материала может быть измерен методом лазерной вспышки (LFA). Эта методология, которая за многие годы стала широко известна, позволяет получать достоверные и точные данные. Типичная толщина образца составляет от 50um до 10mm.

Компания NETZSCH является ведущим мировым производителем приборов, предлагающим широкий спектр приборов для испытаний на термальные свойства, в частности, лазерный флэш - теплопровод. Эти системы LFA широко используются в таких областях, как керамика, металлы, полимеры, ядерные исследования и так далее.

Тепловое отражение -
Испытание коэффициента тепловой диффузии тонкопленочного материала толщиной в нанометр

С заметным прогрессом в проектировании электронных устройств и сопутствующей потребностью в эффективном тепловом управлении становится все более важным проводить точные измерения коэффициента тепловой диффузии / теплопроводности в нанометровом диапазоне толщины.

Японский Национальный институт передовых промышленных наук и технологий (AIST) в начале 1990 - х годов откликнулся на промышленный спрос и начал разрабатывать « метод теплового отражения импульсного светового нагревания». Компания PicoTherm была основана в 2008 году вместе с прибором теплового отражения наносекундного класса « NanoTR» и прибором теплового отражения пикосекундного класса « PicoTR», которые позволяют проводить абсолютные измерения коэффициента тепловой диффузии пленки толщиной от десятков микрон до нанометрового диапазона.

В 2014 году японский филиал NETZSCH стал эксклюзивным агентом компании PicoTherm. В сочетании с нашими существующими приборами LFA NETZSCH теперь предлагает полный спектр тестовых программ, начиная от нано - пленок и заканчивая миллиметровыми блоками.

Зачем нужно тестировать пленку?
Тепловые свойства пленки отличаются от тепловых свойств блочного материала.

Толщина нанометровых пленок, как правило, меньше диаметра зерна, типичного для аналогичных блочных материалов. Таким образом, его термофизические свойства будут значительно отличаться от блочного материала.

Период тепловой диффузии для различных приборов

Технические параметры:

НаноТР PicoTR
хост диапазон температур
真空度
Режим измерения
RT, RT... 300 °C (опция)
N/A
РФ/ФФ
RT, RT... 500 °C (опция)
10-6 MBAR (Выбор)
РФ/ФФ
Измерения Коэффициент тепловой диффузии
нагревательный лазер Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна
1 нз
1550 нм
100 мкм
0,5 пс
1550 нм
45 мкм
детекторный лазер Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна
непрерывный
785 нм
50 мкм
0,5 пс
775 нм
25 мкм
Толщина слоя образца
(Модель RF)
смола
Керамика
металл
30 нм. 2 мкм
300 нм. 5 мкм
1 мкм. 20 мкм
10 нм. .. 100 нм
10 нм. 300 нм
100 нм. 900 нм
Толщина слоя образца
(Модель FF)
> 1 мкм > 100 нм
Матрица материал
размер
толщина
Непрозрачность / прозрачность
10... 20 мм квадрат
≤ 1 мм
Время тепловой диффузии 10ns. .. 10 мкс 10 пс. .. 10ns
Коэффициент тепловой диффузии диапазон
Точность
повторяемость
0.01 . .. 1000 мм²/с
CRM 5808A, толщина 400 нм, режим RF, 40min Проверка времени тестирования: ±6,2%
±5%
Функции программного обеспечения Расчет тепловых свойств; Многоуровневый анализ; база данных









































НаноТР PicoTR
хост диапазон температур
真空度
Режим измерения
RT, RT... 300 °C (опция)
N/A
РФ/ФФ
RT, RT... 500 °C (опция)
10-6 MBAR (Выбор)
РФ/ФФ
Измерения Коэффициент тепловой диффузии
нагревательный лазер Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна
1 нз
1550 нм
100 мкм
0,5 пс
1550 нм
45 мкм
детекторный лазер Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна
непрерывный
785 нм
50 мкм
0,5 пс
775 нм
25 мкм
Толщина слоя образца
(Модель RF)
смола
Керамика
металл
30 нм. 2 мкм
300 нм. 5 мкм
1 мкм. 20 мкм
10 нм. .. 100 нм
10 нм. 300 нм
100 нм. 900 нм
Толщина слоя образца
(Модель FF)
> 1 мкм > 100 нм
Матрица материал
размер
толщина
Непрозрачность / прозрачность
10... 20 мм квадрат
≤ 1 мм
Время тепловой диффузии 10ns. .. 10 мкс 10 пс. .. 10ns
Коэффициент тепловой диффузии диапазон
Точность
повторяемость
0.01 . .. 1000 мм²/с
CRM 5808A, толщина 400 нм, режим RF, 40min Проверка времени тестирования: ±6,2%
±5%
Функции программного обеспечения Расчет тепловых свойств; Многоуровневый анализ; база данных

НаноТР PicoTR
хост диапазон температур
真空度
Режим измерения
RT, RT... 300 °C (опция)
N/A
РФ/ФФ
RT, RT... 500 °C (опция)
10-6 MBAR (Выбор)
РФ/ФФ
Измерения Коэффициент тепловой диффузии
нагревательный лазер Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна
1 нз
1550 нм
100 мкм
0,5 пс
1550 нм
45 мкм
детекторный лазер Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна
непрерывный
785 нм
50 мкм
0,5 пс
775 нм
25 мкм
Толщина слоя образца
(Модель RF)
смола
Керамика
металл
30 нм. 2 мкм
300 нм. 5 мкм
1 мкм. 20 мкм
10 нм. .. 100 нм
10 нм. 300 нм
100 нм. 900 нм
Толщина слоя образца
(Модель FF)
> 1 мкм > 100 нм
Матрица материал
размер
толщина
Непрозрачность / прозрачность
10... 20 мм квадрат
≤ 1 мм
Время тепловой диффузии 10ns. .. 10 мкс 10 пс. .. 10ns
Коэффициент тепловой диффузии диапазон
Точность
повторяемость
0.01 . .. 1000 мм²/с
CRM 5808A, толщина 400 нм, режим RF, 40min Проверка времени тестирования: ±6,2%
±5%
Функции программного обеспечения Расчет тепловых свойств; Многоуровневый анализ; база данных