- Электронная почта
- Телефон
-
Адрес
Новый район Пудун, Шанхай, улица Хуэйнань, 168А, комната 322.
Шанхайская компания Хэнцзе
Новый район Пудун, Шанхай, улица Хуэйнань, 168А, комната 322.
Метод термического отражения (Thermo - Reflectance) основан на сверхскоростной лазерной системе вспышки, которая измеряет параметры термообразия металлических, керамических и полимерных пленок на подложке, такие как коэффициент тепловой диффузии (Thermal Diffusivity), теплопроводность (Thermal Conductivity), коэффициент поглощения тепла (Thermal Effusivity) и тепловое сопротивление интерфейса.
Поскольку время вспышки лазера составляет только наносекундный (ns) уровень и даже достигает пикосекундного (ps) порядка, система может измерять тонкие пленки толщиной до 10 нм. В то же время, система предлагает различные режимы измерения, чтобы адаптироваться к различным базовым ситуациям (прозрачным / непрозрачным).
Этот метод соответствует международным стандартам:
JIS R 1689: измерение коэффициента тепловой диффузии тонкой керамической пленки методом импульсного лазерного теплового отражения;
JIS R 1690 - Метод измерения теплового сопротивления на границе между керамической и металлической пленкой.
Краткая история развития
|
| Модель измерения RF | Модель измерения FF | |
| Основной лазерный источник нагревает пленку с обратной стороны и обнаруживает, что лазер измеряет процесс повышения температуры пленки с передней стороны, чтобы рассчитать параметры теплопроводности пленки. Этот режим применим к прозрачным базовым чипам. | Основной лазерный источник нагревает пленку спереди и обнаруживает, что лазер измеряет процесс снижения температуры пленки спереди, чтобы рассчитать параметры теплопроводности пленки. Этот режим применим к непрозрачным базовым пластинам. |
В современной промышленности все большее значение приобретают знания о тепловых свойствах материалов, особенно термофизических свойствах. Здесь мы можем назвать некоторые типичные области, такие как охлаждающие материалы, используемые в высокопроизводительных микроэлектронных устройствах, термоэлектрические материалы, используемые в качестве постоянной энергии, теплоизоляционные материалы в области энергосбережения, тепловые барьерные покрытия, используемые в лопастях турбины (ТБК), а также безопасная эксплуатация ядерных установок и так далее.
Коэффициент теплопроводности особенно важен среди различных термических параметров. Коэффициент тепловой диффузии / теплопроводности материала может быть измерен методом лазерной вспышки (LFA). Эта методология, которая за многие годы стала широко известна, позволяет получать достоверные и точные данные. Типичная толщина образца составляет от 50um до 10mm.
Компания NETZSCH является ведущим мировым производителем приборов, предлагающим широкий спектр приборов для испытаний на термальные свойства, в частности, лазерный флэш - теплопровод. Эти системы LFA широко используются в таких областях, как керамика, металлы, полимеры, ядерные исследования и так далее.
С заметным прогрессом в проектировании электронных устройств и сопутствующей потребностью в эффективном тепловом управлении становится все более важным проводить точные измерения коэффициента тепловой диффузии / теплопроводности в нанометровом диапазоне толщины.
Японский Национальный институт передовых промышленных наук и технологий (AIST) в начале 1990 - х годов откликнулся на промышленный спрос и начал разрабатывать « метод теплового отражения импульсного светового нагревания». Компания PicoTherm была основана в 2008 году вместе с прибором теплового отражения наносекундного класса « NanoTR» и прибором теплового отражения пикосекундного класса « PicoTR», которые позволяют проводить абсолютные измерения коэффициента тепловой диффузии пленки толщиной от десятков микрон до нанометрового диапазона.
В 2014 году японский филиал NETZSCH стал эксклюзивным агентом компании PicoTherm. В сочетании с нашими существующими приборами LFA NETZSCH теперь предлагает полный спектр тестовых программ, начиная от нано - пленок и заканчивая миллиметровыми блоками.
Толщина нанометровых пленок, как правило, меньше диаметра зерна, типичного для аналогичных блочных материалов. Таким образом, его термофизические свойства будут значительно отличаться от блочного материала.
Период тепловой диффузии для различных приборов
Технические параметры:
НаноТР
PicoTR
хост
диапазон температур
真空度
Режим измеренияRT, RT... 300 °C (опция)
N/A
РФ/ФФRT, RT... 500 °C (опция)
10-6 MBAR (Выбор)
РФ/ФФ
Измерения
Коэффициент тепловой диффузии
нагревательный лазер
Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятна1 нз
1550 нм
100 мкм0,5 пс
1550 нм
45 мкм
детекторный лазер
Ширина импульса
Длина волны
Диаметр пятнанепрерывный
785 нм
50 мкм0,5 пс
775 нм
25 мкм
Толщина слоя образца
(Модель RF)смола
Керамика
металл30 нм. 2 мкм
300 нм. 5 мкм
1 мкм. 20 мкм10 нм. .. 100 нм
10 нм. 300 нм
100 нм. 900 нм
Толщина слоя образца
(Модель FF)
> 1 мкм
> 100 нм
Матрица
материал
размер
толщинаНепрозрачность / прозрачность
10... 20 мм квадрат
≤ 1 мм
Время тепловой диффузии
10ns. .. 10 мкс
10 пс. .. 10ns
Коэффициент тепловой диффузии
диапазон
Точность
повторяемость0.01 . .. 1000 мм²/с
CRM 5808A, толщина 400 нм, режим RF, 40min Проверка времени тестирования: ±6,2%
±5%
Функции программного обеспечения
Расчет тепловых свойств; Многоуровневый анализ; база данных