1. Перед очисткой необходимо сначала вывести остаточный материал из системы деионизированной водой;
2. Стандартизированное измерение потока воды для определения того, требуется ли химическая очистка: Преобразование системы в очищенное состояние клапана, то есть концентрат и осмос возвращаются в циркуляцию резервуара CIP (резервуар для жидкости), пусковое оборудование, открытие выхлопного клапана фильтра безопасности для закрытия после выхлопа, регулирование расхода и параметров давления, регистрация потока осмоса в это время и сравнение с первоначальным стандартизированным потоком мембраны, ниже, при снижении до 85%, должна быть проведена очистка.
3. Настройка химических моющих средств: определение загрязняющих веществ на основе произведенной жидкости материала, выбор рецепта очистки для загрязняющих веществ (см. Таблицу очистительных средств), приготовление очищающей жидкости по формуле очистки в циркулирующий резервуар.
4. Химическая очистка: включение в эксплуатацию в соответствии со стандартизированным методом измерения потока воды, очистка в соответствии с требованиями программы очистки.
После завершения очистки, используя стандартизированные измерения потока воды, чтобы определить, нужно ли продолжать химическую очистку: промыть систему деионизированной водой, измерить поток воды по вышеуказанному методу стандартного потока воды, если поток восстановлен, система переходит в следующую партию производства или в режим ожидания, если не восстановлен, чтобы заменить очиститель для продолжения очистки, если многократная очистка не может быть восстановлена, необходимо связаться с компанией RISINGSUN для поиска решения.